Le celle solari (dispositivi che generano elettricità quando esposti alla luce solare) sono spesso rivestiti con un film trasparente e sottile di monossido di silicio (SiO, n = 1,45) per ridurre al minimo le perdite riflettenti dalla superficie. Supponiamo che una cella solare al silicio (n = 3,5) sia rivestita a questo scopo con una sottile pellicola di monossido di silicio.
Determinare lo spessore minimo del film che produce la minima riflessione a una lunghezza d'onda di 550 nm, vicino al centro dello spettro visibile

Nella prima riflessione il cambiamento di fase è π.
Nella seconda riflessione il cambiamento di fase è: $${\varphi }_2=\frac{2t}{{\lambda }_n}\cdot 2\pi +\pi =\frac{2tn}{\lambda }\cdot 2+\pi$$ La differenza di fase delle due onde riflesse è: $${\varphi }_2-{\varphi }_1=\frac{2t}{{\lambda }_n}\cdot 2\pi +\pi -\pi =\frac{4tn}{\lambda }\cdot \pi$$
Si ottiene una minima riflessione quando l'interferenza è distruttiva, ovvero quando la differenza di fase è pari a un multiplo dispari di π: $${\varphi }_2-{\varphi }_1=\frac{4tn}{\lambda }\cdot \pi =(2k+1)\pi$$
LO spessore minimo è corrispondente a k= 0.
Possiamo ora trovare lo spessore: $$\frac{4tn}{\lambda }\cdot \pi =\pi \to t=\frac{\lambda }{4t}=\frac{550}{4\cdot 1.45}\approx 95\mathit{nm}$$